今天，中威公司宣布，其電容耦合高能等離子體刻蝕設(shè)備的第2000個(gè)反應(yīng)器成功交付給國(guó)內(nèi)某半導(dǎo)體廠商。

眾美公司指出，該批次出貨的CCP蝕刻設(shè)備反應(yīng)平臺(tái)包括Primo AD—RIE和Primo HD—RIE系列產(chǎn)品Primo AD—RIE—e是第二代介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品Primo AD—RIE的子產(chǎn)品，將應(yīng)用于5 nm及以下前段和中段掩膜層刻蝕的開(kāi)發(fā)和量產(chǎn)

交付的Primo HD—RIE批次具有六個(gè)單反應(yīng)腔系統(tǒng)，旨在為中高縱橫比蝕刻提供全面的解決方案據(jù)中微介紹，Primo HD—RIE在刻蝕3D—NAND和DRAM的高深寬比溝槽和深孔方面表現(xiàn)優(yōu)異，在一些關(guān)鍵工藝上已經(jīng)量產(chǎn)

據(jù)本站介紹，數(shù)據(jù)顯示，2022年上半年，中威公司新簽金額同比增長(zhǎng)61.83%至30.57億元，營(yíng)業(yè)收入同比增長(zhǎng)47.30%至19.72億元，扣非歸母凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)615.26%至4.41億元，其中蝕刻設(shè)備收入12.99億元，同比增長(zhǎng)